Talento tico estará presente en el Fashion Week de Nueva York
Daniel del Barco y Sonia Chang trabajarán una minicolección en conjunto. Gerson Vargas/La República
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La próxima edición de la Semana de la Moda de Nueva York contará nuevamente con la presencia de diseñadores nacionales.

Esto como parte de la iniciativa “Digital Couture” de la firma Epson, que invita a creativos a diseñar piezas de moda a través de la sublimación.
Este año los seleccionados son Sonia Chang y Daniel del Barco, quienes trabajarán en conjunto para mostrar una selección de piezas.
Chang creará cuatro vestidos de noche inspirados en las esferas prehistóricas nacionales, con la ayuda de una diseñadora gráfica.
Del Barco, se encargará de crear los zapatos perfectos para cada propuesta.
“Como es un trabajo conjunto, estoy siguiendo la propuesta de Sonia, voy a apegarme a lo que ella proponga. Me gustaría diseñar opciones diferentes como sandalias y botas, para demostrar que la sublimación se puede utilizar en todo tipo de calzado”, dijo Del Barco.
Este año el tema será la “Historia Textil” y es el tercer año que se lleva a cabo la iniciativa, que tiene como objetivo dar a conocer las tecnologías de la empresa, que busca llevar la creatividad más allá de la visión de sus clientes y además promover el talento.
En la edición anterior del evento participó el diseñador nacional Fabrizzio Berrocal.
“Para nosotros es un orgullo contar con la participación de dos representantes de tan alta trayectoria que pondrán el nombre de Costa Rica y de Centroamérica en alto. La sublimación es una técnica que permite explorar la creatividad con estilos únicos”, dijo Diego Rosero, gerente general de Epson Costa Rica.


Detalles


Qué Proyecto Digital Couture
Diseñadores Sonia Chang y Daniel del Barco
Dónde Semana de la Moda de Nueva York
Cuándo Febrero 2017

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